晶體中常見的一維缺陷（線缺陷），在透射電子顯微鏡下金屬薄膜試樣衍襯象中表現(xiàn)為彎曲的線條。

45）層錯(cuò)

面心立方、密排六方、體心立方等常見金屬晶體中密排晶面堆垛層次局部發(fā)生錯(cuò)誤而形成的二維晶體學(xué)缺陷（面缺陷），在透射電子顯微鏡下的金屬薄膜試樣衍襯象中表現(xiàn)為若干平直干涉條紋組成的帶。

46）位錯(cuò)塞積

滑動(dòng)中的位錯(cuò)列在領(lǐng)先位錯(cuò)受阻時(shí)形成塞積的現(xiàn)象，在透射電子顯微鏡下金屬薄膜試樣衍襯象中表現(xiàn)為接近平行排列的短弧線。

47）空位

晶體結(jié)構(gòu)中原子空缺的位置。屬于零維晶體學(xué)缺陷。

48）織構(gòu)

金屬中諸晶粒晶體學(xué)位向接近一致的組織。

49）母相

由之轉(zhuǎn)變?yōu)樾孪嗟脑枷唷?/span>

50）二次馬氏體

工件回火冷卻過(guò)程中殘留奧氏體發(fā)生轉(zhuǎn)變形成的馬氏體。

熱處理缺陷類

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