半導(dǎo)體光催化作為當(dāng)今研究的一個(gè)熱點(diǎn)，在追尋高性能的過(guò)程中，卻總被光腐蝕困擾，極大限制了催化劑壽命，以致影響到性能。然而目前，主要通過(guò)阻止光敏催化結(jié)合以及添加犧牲劑來(lái)延長(zhǎng)光催化壽命，收效甚微。

    香港理工大學(xué)柴揚(yáng)課題組選擇CdS這種高性能的催化劑作為基體材料，在上面轉(zhuǎn)移三層石墨烯作為覆蓋層，實(shí)現(xiàn)了8倍光催化壽命的提升，同時(shí)也讓光催化效率提高了2.5倍！如此顯著的性能提升是因?yàn)槭硬还饩哂懈叩墓馔高^(guò)率，能夠輔助光吸收的特性，并且可以促進(jìn)界面載流子轉(zhuǎn)移，減少載流子重組。不僅如此，借助石墨烯強(qiáng)的空間位阻效應(yīng)，石墨烯還能隔絕外界的水與氧，而水氧正是造成光腐蝕的罪魁禍?zhǔn)住Ｖ螅麄冞€通過(guò)理論計(jì)算證明哪怕石墨烯晶格缺失8個(gè)原子，其阻礙能最低也有0.32 eV，水與氧根本無(wú)法透過(guò)，因而僅僅三層石墨烯就能極好地抵抗光腐蝕！

    高性能催化劑CdS與石墨烯間的碰撞也能擦出不一樣的火花，對(duì)于光腐蝕的成因以及提升機(jī)理的解釋清晰有據(jù)。簡(jiǎn)單高效的抗光腐蝕成果最終發(fā)表在JACS上了！

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