Cr2+/Cr3+對(duì)FLiNaK熔鹽體系電偶腐蝕抑制行為及機(jī)理研究
2021-05-19 14:28:34
作者：左勇 來源：中國(guó)腐蝕與防護(hù)學(xué)報(bào)
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摘要
利用腐蝕電化學(xué)以及浸泡腐蝕實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，通過向FLiNaK熔鹽體系引入Cr2+/Cr3+氧化還原緩沖離子對(duì)，可以使不同金屬材料在該熔鹽體系的電位差縮小乃至消除，并抑制不同金屬材料之間的電偶腐蝕。
關(guān)鍵詞： 熔鹽 ; 電偶腐蝕 ; 氧化還原緩沖離子對(duì) ; 腐蝕抑制
Abstract
Galvanic corrosion should be considered when dissimilar metallic materials in contact with each other in a molten salt system of high ionic conductivity. Corrosion electrochemistry and immersion corrosion tests indicated that the difference of the corrosion potentials of different metal materials can be decreased or diminished by coupling Cr2+/Cr3+ into the 46.5%LiF-11.5%NaF-42.0%KF （in mole fraction） molten salt. Thus, the galvanic corrosion behavior between different metal materials can be effectively inhibited.
Keywords： molten salt ; galvanic corrosion ; redox buffering ion pair ; corrosion mitigation
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標(biāo)簽： 熔鹽, 電偶腐蝕 , 氧化還原緩沖離子對(duì), 腐蝕抑制
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