【引言】
直到現(xiàn)在,鐵基超導(dǎo)體中最高的臨界溫度都是在FeSe單層材料中實(shí)現(xiàn)的。相比于塊體FeSe超導(dǎo)臨界溫度只有8K,F(xiàn)eSe單層材料的超導(dǎo)臨界溫度要高得多,在鈦酸鍶襯底上制備得到的FeSe單層薄膜超導(dǎo)臨界溫度超過50K。該類材料和其它FeSe基材料比如AxFe2-ySe2和(Li,Fe)OHFeSe為何具有相對高得多的超導(dǎo)性能,仍然沒有一個準(zhǔn)確的機(jī)理可以解釋,也是鐵基超導(dǎo)體領(lǐng)域一個研究的熱點(diǎn)。所有具有高臨界轉(zhuǎn)變溫度的FeSe基材料有一個共同點(diǎn)就是在其布里淵區(qū)的中心空穴包的缺失。費(fèi)米面拓?fù)鋵eSe基材料超導(dǎo)性能的重要性,已經(jīng)被在FeSe薄膜表面摻入電子載流子、在晶體中摻入鉀、在塊狀材料中用離子液體作為柵介質(zhì)等實(shí)驗(yàn)證明了。對于這一點(diǎn),很自然就會問,單層的FeSe/STO材料電子摻雜能到什么樣的程度,在高電子摻雜的FeSe基材料,超導(dǎo)性能是如何與費(fèi)米面學(xué)聯(lián)系起來的。
【成果簡介】
近日,來自中國科學(xué)院物理所的孫煜杰和丁洪(共同通訊)對電子摻雜FeSe單層材料具有增強(qiáng)超導(dǎo)性能進(jìn)行了深入研究,揭示了其與Lifshitz轉(zhuǎn)變的關(guān)系。
研究人員用角分辨光電子能譜等測試方法進(jìn)行表征,開始用的FeSe/STO單層材料樣品,之前已經(jīng)在350℃退火20小時,這過程將相對較高的電子濃度轉(zhuǎn)移到了樣品中,而且其已經(jīng)被材料具有大電子費(fèi)米面包證明。之后,研究人員將K原子原位摻雜到樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)更高的摻雜水平。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,伴隨這著第二Lifshitz轉(zhuǎn)變,材料的超導(dǎo)臨界溫度會出現(xiàn)15K的快速提升,第二Lifshitz轉(zhuǎn)變是被布里淵區(qū)中心出現(xiàn)的電子包證明的,由K原子原位摻雜引起。他們的工作還表明在增強(qiáng)FeSe材料超導(dǎo)性能方面配對交互作用是軌道依賴的。
研究人員的工作為更好地理解FeSe基單層材料具有增強(qiáng)的超導(dǎo)性能打下基礎(chǔ),推動了FeSe基材料相關(guān)機(jī)理的研究。
【圖文導(dǎo)讀】
圖1 鉀覆蓋的1UC FeSe/STO費(fèi)米面演變過程
(a)20K溫度下原始樣品費(fèi)米面密度示意圖,并且通過一個關(guān)于EF的20meV能量窗進(jìn)行整合。簡并的電子包占據(jù)了整個布里淵區(qū)大約8.2%面積,根據(jù)盧京格爾定理,材料的電子濃度為每個晶胞0.164個電子。
(b-d)與a類似,但是樣品經(jīng)過了K連續(xù)覆蓋。平板右邊的底部的百分比顯示的是1-Fe布里淵區(qū)M周圍費(fèi)米面電子的面積。M處電子包大小經(jīng)過連續(xù)的K沉積緩慢飽和(~10.4%, ~10.6% 和~10.7%分別代表第一次、第二次、第三次連續(xù)的沉積),但是光譜在沉積過程中寬化,這是因?yàn)槌练e過程中讓表面無序度增加。
(e)沿高對稱剪切方向動量分布曲線,該方向顯示在插圖中在K涂層之上,紅線是使用多個洛倫茲函數(shù)擬合實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的結(jié)果。
(f)a-d圖中費(fèi)米面對比。
圖2 電子能帶結(jié)構(gòu)
(a,b)14K溫度下,Γ和M附近,沿著圖1e插圖所示方向的鉀涂層角分辨光電子能譜強(qiáng)度演變圖。紅色的虛線形狀為拋物線,指代為分散的能帶。
(c)剪切方向與a一致的強(qiáng)度圖,只是測試溫度是在70K。圖像被費(fèi)米-狄拉克分布函數(shù)分隔開,利用解析函數(shù)來讓EF以上的狀態(tài)可視化。
(e)被鉀覆蓋的樣品在Γ附近的強(qiáng)度圖,其被He II而不是 He Iα記錄,該樣品被標(biāo)記為2。
(d)Γ處EDCs的對比,被He II和 He Iα波束記錄。
(f)對Fe 3d, Se 4p 和 K 4s橫截面原子光電離計算結(jié)構(gòu)。
(g)沿著Γ-M高對稱線方向分散的能帶的對比。Γ附近類電子帶能量位置,是從參考文獻(xiàn)中得到的,或c中數(shù)據(jù)預(yù)估得到的。
圖3 超導(dǎo)能隙
(a)原始的和被鉀覆蓋的1UC FeSe/STO樣品在M附近電子費(fèi)米面kF點(diǎn)處的EDCs隨溫度的演變圖。電子摻雜顯示在平板之上。紅線代表擬合的數(shù)據(jù)。
(d-f)超導(dǎo)能隙大小與溫度關(guān)系曲線,數(shù)據(jù)是分別從a-c圖中的擬合曲線獲得的。誤差棒是從擬合曲線的標(biāo)準(zhǔn)偏差(s.d.)預(yù)估得到的。
(g)摻雜量x~0.212的鉀覆蓋的1UC FeSe/STO樣品的費(fèi)米面示意圖。
(h)上部分:被費(fèi)米-狄拉克函數(shù)分隔Γ處EDCs隨溫度的演變。下部分:低溫環(huán)境下EDCs進(jìn)一步與70K環(huán)境下的EDCs分離。
(i)14K溫度下,不同kF點(diǎn)處測試得到的對稱的EDCs。其在g圖中被顏色不同的點(diǎn)標(biāo)識出來。
(j)極坐標(biāo)表示的動量與M處附近電子費(fèi)米面超導(dǎo)能隙大小關(guān)系圖,誤差棒是再次從擬合曲線的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
(s.d.)預(yù)估得到的。15meV處近乎各項同行的能隙被灰色虛線圓圈標(biāo)出。
圖4 FeSe的相圖該相圖闡明了超導(dǎo)性能和費(fèi)米面拓?fù)溲葑冞^程。
x=0.11處的數(shù)據(jù)是來源于我們以前的工作。FeSe塊狀材料的臨界溫度數(shù)據(jù),被青色曲線表示,來源于參考文獻(xiàn)13和15。誤差棒是從擬合曲線的標(biāo)準(zhǔn)偏差(s.d.)預(yù)估得到的。臨界溫度的誤差棒包括了測量的不準(zhǔn)確性。我們也注意到虛線可能是外推法的結(jié)果,沒有考慮到x大約0.214時,材料的不穩(wěn)定性。
【小結(jié)】
研究人員對單層的FeSe/STO材料進(jìn)行深入表征,發(fā)現(xiàn)伴隨這著第二Lifshitz轉(zhuǎn)變,材料的超導(dǎo)臨界溫度會有一個大的提高。而且研究人員用了一個軌道依賴的微觀模型來對FeSe/STO材料的超導(dǎo)性和增強(qiáng)的特性進(jìn)行闡明。他們工作對闡明FeSe/STO材料為何具有增強(qiáng)的超導(dǎo)性能有大的推動作用,加深了人們對FeSe/STO材料相關(guān)機(jī)理的理解。
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