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  2. 哈工大《Acta Materialia》:氧偏析導(dǎo)致Mo晶界脆化機制
    2023-11-22 14:51:21 作者:材料學(xué)網(wǎng) 來源:材料學(xué)網(wǎng) 分享至:

    鉬及鉬合金具有一系列優(yōu)異的性能,如高熔點、高導(dǎo)熱性、優(yōu)異的耐腐蝕性和高溫蠕變性能,因此在許多工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出極高的應(yīng)用價值。然而,鉬及鉬合金對氧偏析十分敏感,氧偏析導(dǎo)致鉬晶界脆性增大,力學(xué)性能惡化。因此,了解氧偏析導(dǎo)致鉬晶界脆化的機理對于改善鉬晶界性能非常重要。


    近日,來自哈爾濱工業(yè)大學(xué)焊接國家重點實驗室馮吉才教授、陳國慶副教授、張戈博士等人開展了鉬合金電子束焊接方面的研究,分析了焊縫中氧偏析導(dǎo)致鉬晶界脆化的本質(zhì)原因。這一研究工作從原子尺度揭示了氧在鉬中的偏析傾向和偏析行為,以及氧偏析對鉬晶界脆化的影響,為通過優(yōu)化晶界結(jié)構(gòu)提高鉬的力學(xué)性能提供了指導(dǎo)。研究成果“First-principles study of oxygen segregation and its effect on the embrittlement of molybdenum symmetrical tilt grain boundaries”為標(biāo)題,發(fā)表在Acta materialia。


    論文鏈接: https://doi.org/10.1016/j.actamat.2023.119387

    通過第一性原理計算方法,系統(tǒng)研究了O在不同的Mo晶界結(jié)構(gòu)和偏析位點中的偏析行為。研究發(fā)現(xiàn):(1)O偏析至不同晶界結(jié)構(gòu)和偏析位點時均表現(xiàn)出負(fù)的偏析能;(2)O偏析至不同晶界結(jié)構(gòu)和偏析位點時,偏析晶界的能量比純晶界能量更低。這些結(jié)果表明,O傾向于在Mo晶界區(qū)域發(fā)生偏析,且O偏析不會降低Mo晶界穩(wěn)定性。

    圖1 (a)O偏析到Mo晶界中心不同偏析位點的偏析能;(b)O偏析到Mo晶界面附近不同偏析位點的偏析能;(c)O偏析到Mo晶界中心不同偏析位點時的晶界能;(d)O偏析到Mo晶界面附近不同偏析位點時的晶界能

    圖2 (a)O偏析到Mo晶界中心不同偏析位點的結(jié)構(gòu)強化能;(b)O偏析到Mo晶界中心不同偏析位點的化學(xué)強化能

    圖3 (a-c)純MoΣ3, Σ5, 和 Σ17 對稱傾轉(zhuǎn)晶界和O偏析晶界的晶界分離能曲線;(d-f)純MoΣ3, Σ5, 和 Σ17 對稱傾轉(zhuǎn)晶界和O偏析晶界的理論拉伸強度曲線

    圖4 (a-c)拉伸過程中純MoΣ3, Σ5, 和 Σ17 對稱傾轉(zhuǎn)晶界界面區(qū)域原子間鍵長變化;(d-f) 拉伸過程中O偏析MoΣ3, Σ5, 和 Σ17 對稱傾轉(zhuǎn)晶界界面區(qū)域原子間鍵長變化

    圖5 第一性原理拉伸過程中純Mo Σ5(310)[001]對稱傾轉(zhuǎn)晶界及O偏析晶界電荷密度變化


    通過原子級別的分析,發(fā)現(xiàn)O傾向于在Mo晶界中心及Mo晶界面附近的間隙位點發(fā)生偏析。O偏析對Mo晶界脆性的影響與Mo的晶界結(jié)構(gòu)及原子間相互作用密切相關(guān)。對于大多數(shù)晶界結(jié)構(gòu),O偏析會導(dǎo)致偏析區(qū)域多面體偏析位點體積增大,相鄰Mo原子間相互作用降低。其中原子間相互作用對于晶界脆化起著決定性的作用。O偏析會削弱了Mo-Mo鍵而促進(jìn)Mo-O鍵的生成。晶界區(qū)域受O偏析影響的Mo-Mo鍵數(shù)量越多,晶界脆化程度就越高。低指數(shù)對稱傾轉(zhuǎn)晶界中Mo-Mo鍵受O偏析影響相對較小,因此可通過晶界工程方法,提高M(jìn)o中低指數(shù)晶界的比例而改善O偏析導(dǎo)致的Mo晶界脆化問題。

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