氫脆機(jī)理與高強(qiáng)抗氫鋼設(shè)計(jì)

    論文摘要：

    對(duì)于金屬結(jié)構(gòu)材料來(lái)說(shuō)，強(qiáng)度越高，氫脆越敏感。對(duì)于馬氏體強(qiáng)化的超高強(qiáng)度鋼來(lái)說(shuō)，通常認(rèn)為馬氏體對(duì)氫脆敏感。但從斷口形貌角度講，高氫濃度和低應(yīng)力水平時(shí)氫脆沿原奧氏體晶界開(kāi)裂，形成沿晶斷口，很少發(fā)現(xiàn)馬氏體開(kāi)裂；中等濃度和中等應(yīng)力值時(shí)氫脆為解理或準(zhǔn)解理斷口，低氫濃度和高應(yīng)力水平時(shí)則容易為韌窩斷口。構(gòu)件在實(shí)際服役時(shí)的應(yīng)力水平均在彈性范圍內(nèi)，該應(yīng)力水平的氫脆斷口一般沿原奧氏體晶界發(fā)生。這可認(rèn)為是擴(kuò)散氫在晶界或相界的富集形成連續(xù)氫分布造成的，如果通過(guò)合金設(shè)計(jì)和適當(dāng)?shù)囊睙?、加工制備工藝，使得?）材料在表面或者亞表面形成？獾淖璧膊悖ㄈ鏏l2O3），使氫不能或者減少進(jìn)入，（2）進(jìn)入的氫不容易在界面富集而形成連續(xù)氫分布，增加界面（減少晶粒尺寸），使進(jìn)入一定總量的氫后界面濃度降低，（3）增加晶內(nèi)彌散氫陷阱（彌散夾雜、位錯(cuò)等），氫進(jìn)入后與彌散氫陷阱結(jié)合，不能形成氫連續(xù)分布。通過(guò)這些設(shè)計(jì)，則有可能制備出抗氫脆超高強(qiáng)度材料。

    報(bào)告人：?jiǎn)汤?/span>