多層鎳的耐蝕性控制要點
2015-12-14 08:00:00
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多層鎳要獲得良好穩(wěn)定的耐蝕性,其控制要點為:

鎳
1.適當控制各鎳層之間的電位差;半光亮鎳與高硫鎳之間140~160mV為佳,高硫鎳與光亮鎳之間為20~35mⅤ,鎳封與光亮鎳之間為10~20mV,電位差可用添加劑來進行調(diào)節(jié)。
2.半光亮鎳的厚度應(yīng)大于光亮鎳厚度,一般為3:2左右。
3.高硫鎳厚度控制在1um左右,大厚、大薄都會影響CASS試驗結(jié)果。
4.適當控制鎳封的Dk和液溫,對于不同基體和不同外形的產(chǎn)品,通過調(diào)整Dk和液溫可獲得較理想的鎳封粒子數(shù)。
5.鎳封層厚度控制在0.8~1um,太薄會使單位面積上的鎳封粒子數(shù)可能達不到工藝要術(shù),太厚則不導(dǎo)電粒子可能被鎳層蓋住。
6.鉻層厚度最好控制在0.25um,太厚容易造成鉻層搭橋,不利于形成微孔鉻。
7.嚴格控制日常工藝參數(shù),嚴格執(zhí)行操作流程,定期分析化驗及檢測,做好霍爾槽試驗。
8.反饋控制;根據(jù)每班或批次產(chǎn)品的質(zhì)檢報告,及時處理,防范于未然。
責任編輯:班英飛
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