微弧氧化膜（MAO）又稱等離子體氧化（PEO），它突破傳統(tǒng)陽(yáng)極氧化技術(shù)的限制，將工作電壓引入到幾百伏的高壓放電區(qū)，能在鎂合金表面原位生長(zhǎng)一層陶瓷結(jié)構(gòu)的氧化膜，該膜與基體結(jié)合力強(qiáng)，厚度可控，可有效改善鎂合金的耐蝕性、耐磨性、抗熱沖擊性及絕緣性，在航天、航空、機(jī)械及電子等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景，已成為鎂合金表面處理研究的熱點(diǎn)。

　　微弧氧化膜的生長(zhǎng)是一個(gè)“成膜-擊穿-融化-燒結(jié)-再成膜”的多次循環(huán)過(guò)程，導(dǎo)致膜中存在大量微孔無(wú)法避免。這些微孔可能成為腐蝕介質(zhì)進(jìn)入鎂基體的通道，影響氧化膜的耐蝕性。針對(duì)上述問(wèn)題，本課題組采用新型的復(fù)合電解液及適合的電參數(shù)獲得了自封孔型微弧氧化膜，該膜的表面和截面形貌如圖1所示。膜表面存在的較大微孔已被填封，且該膜與基體的結(jié)合良好。自封孔微弧氧化膜的阻抗值比傳統(tǒng)微弧氧化膜的提高了三個(gè)數(shù)量級(jí)（見(jiàn)圖2），中性鹽霧試驗(yàn)2000小時(shí)未見(jiàn)腐蝕。

　　該技術(shù)已經(jīng)在某些產(chǎn)品上批量應(yīng)用，相關(guān)研究成果發(fā)表在Corrosion Science 53 (2011) 3845-3852, Surface & Coatings Technology 206 (2011) 455-463, Materials and Corrosion 2011(62)1124-1132。