劉忠范、彭海琳重磅綜述:CVD法批量制備石墨烯薄膜
2018-09-26 11:27:01
作者:劉忠范,彭海琳 來(lái)源:材聲到
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化學(xué)氣相沉積(CVD)法具有優(yōu)異的可控性、可擴(kuò)展性,因而被認(rèn)為是生產(chǎn)高質(zhì)量、大面積石墨烯薄膜的有效方法。 研究者致力于通過(guò)對(duì)石墨烯的生長(zhǎng)進(jìn)行調(diào)控,從而制備大疇區(qū)尺寸、均勻的石墨烯薄膜,并實(shí)現(xiàn)快速生長(zhǎng)和低溫生長(zhǎng)。目前,科學(xué)界和工業(yè)界都致力于實(shí)現(xiàn)石墨烯薄膜的大規(guī)模生產(chǎn)。不過(guò),與實(shí)驗(yàn)室規(guī)模的樣品相比,工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)的石墨烯在品質(zhì)上還有很大差距。對(duì)于CVD法規(guī)模化制備石墨烯的研究,作者認(rèn)為,最重要的是將實(shí)驗(yàn)室級(jí)的研究和產(chǎn)業(yè)化規(guī)模的制備相聯(lián)系起來(lái)。通過(guò)設(shè)計(jì)和調(diào)整生產(chǎn)條件(工藝、設(shè)備和關(guān)鍵參數(shù)),可實(shí)現(xiàn)對(duì)石墨烯主要結(jié)構(gòu)特性的調(diào)控(層數(shù)、單晶疇區(qū)尺寸等),以面向應(yīng)用、滿(mǎn)足相關(guān)性能要求(薄膜電阻、透明度和穩(wěn)定性等)。同時(shí),在特定應(yīng)用方面的因素又對(duì)生產(chǎn)過(guò)程的設(shè)計(jì)起到指導(dǎo)作用(成本、速率和產(chǎn)能等)。(圖1)在這篇文章中,作者首先簡(jiǎn)要介紹了CVD法制備石墨烯的基本原理,包括生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)和基底選擇(圖2)、石墨烯批量化制備的挑戰(zhàn)等。隨后,作者介紹了石墨烯大規(guī)模生產(chǎn)的工程原理。在生產(chǎn)工藝方面,介紹了分批生產(chǎn)法( Batch‐to‐Batch,B2B)(圖3)、 卷對(duì)卷生產(chǎn)法(Roll-to-Roll,R2R)(圖4),并對(duì)比討論了二者的優(yōu)缺點(diǎn)。在設(shè)備方面,介紹了不同的加熱方式,認(rèn)為實(shí)驗(yàn)室常用的熱壁CVD能耗較高,因而冷壁CVD受到研究者關(guān)注(圖5),其生長(zhǎng)所得石墨烯質(zhì)量可以不輸于熱壁CVD(表1);此外還介紹了等離子體輔助CVD法(PECVD)(圖6),其能夠降低生長(zhǎng)溫度、提高生長(zhǎng)速率,然而所得石墨烯薄膜的均勻性和質(zhì)量有不足之處。在關(guān)鍵參數(shù)方面,介紹了不同的前驅(qū)體(圖7),包括最常用的甲烷,以及其他可實(shí)現(xiàn)快速生長(zhǎng)的烴類(lèi),如乙烷、乙烯、乙醇等;介紹了體系壓強(qiáng)對(duì)石墨烯薄膜均勻性的影響(圖8),認(rèn)為低壓(LP)CVD相比常壓(AP)CVD,前者所得石墨烯具有更好的層數(shù)均勻性;作者還介紹了氣流(圖9)的影響。之后,作者討論了石墨烯薄膜材料的品質(zhì)控制問(wèn)題。在石墨烯結(jié)構(gòu)的快速表征方面,介紹了覆蓋度和單晶疇區(qū)尺寸(圖10)、晶界(圖11)、層數(shù)(圖12)的表征方法;就石墨烯的大面積均一性方面,介紹了層數(shù)精確控制(圖13)和單晶疇區(qū)尺寸的一致性控制(圖14)。
最后,作者指出,石墨烯的產(chǎn)品質(zhì)量和成本效益不可兼得,需要做出權(quán)衡(圖15)。不同的應(yīng)用目標(biāo)對(duì)于石墨烯品質(zhì)和價(jià)格有不同的要求(表2)。石墨烯薄膜的商業(yè)化需要綜合考慮各種因素,包括生長(zhǎng)、轉(zhuǎn)移、應(yīng)用和標(biāo)準(zhǔn)化(圖16)。制定國(guó)際公認(rèn)的標(biāo)準(zhǔn)對(duì)石墨烯的產(chǎn)業(yè)化十分重要,2017年英國(guó)國(guó)家物理實(shí)驗(yàn)室發(fā)布了首個(gè)石墨烯國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化標(biāo)準(zhǔn)(ISO/TS 80004-13:2017);早在在2016年中國(guó)提出了第一個(gè)石墨烯國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。許多創(chuàng)業(yè)公司正在致力于石墨烯薄膜的工業(yè)化生產(chǎn)和規(guī)模化應(yīng)用,目前已經(jīng)有一些應(yīng)用進(jìn)入了市場(chǎng),如石墨烯觸摸板和加熱器等。不過(guò)作者認(rèn)為,石墨烯產(chǎn)業(yè)商處在發(fā)展的早期階段,在真正的石墨烯“殺手級(jí)應(yīng)用”出現(xiàn)之前,不應(yīng)盲目擴(kuò)大石墨烯薄膜材料產(chǎn)能。
圖1 CVD法規(guī)模化生產(chǎn)石墨烯薄膜的實(shí)現(xiàn)路徑

圖2 金屬基底上CVD生長(zhǎng)石墨烯的機(jī)理

圖3 分批生產(chǎn)法(B2B)在銅箔上生長(zhǎng)石墨烯

圖4 卷對(duì)卷生產(chǎn)法(R2R)在銅箔上生長(zhǎng)石墨烯

圖5 生長(zhǎng)石墨烯的冷壁CVD系統(tǒng)

表1 文獻(xiàn)中CVD條件的總結(jié)

圖6 PECVD法在金屬基底上生長(zhǎng)石墨烯

圖7 不同前驅(qū)體生長(zhǎng)石墨烯

圖8 腔體氣壓對(duì)CVD生長(zhǎng)石墨烯的影響

圖9 低壓CVD體系中氣流對(duì)石墨烯生長(zhǎng)的影響

圖10 光學(xué)表征石墨烯疇區(qū)和覆蓋度

圖11 光學(xué)顯微鏡表征石墨烯晶界

圖12 光學(xué)法表征石墨烯層數(shù)

圖13 嚴(yán)格單層石墨烯的生長(zhǎng)

圖14 生長(zhǎng)單晶疇區(qū)大小均已的石墨烯

圖15 不同工程原理的品質(zhì)和成本效益示意圖

圖16 石墨烯薄膜產(chǎn)業(yè)化展望

表2 面向不同應(yīng)用,建議采取的不同技術(shù)路線(xiàn)
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