通過雙光子光刻（TPL）3D打印工藝，研究人員可以打印出具有人發寬度幾分之一的亞微米特征的木垛晶格

    勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（LLNL）因其深入的材料研究而聞名，其經常涉及高級3D打印技術，包括在納米尺度上進行3D打印。最近實驗室有了新發現，可以提高納米級3D打印能力。雙光子光刻是一種高分辨率3D打印技術，能夠產生小于人類頭發寬度百分之一的納米級特征。LLNL的發現擴展了其潛力，并且為X射線計算機斷層掃描（CT）無創分析嵌入式3D打印的醫療裝置或植入物中的壓力或缺陷提供了可能。