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  2. 北大深研院孟鴻團(tuán)隊(duì)Nano Energy:降低反向鈣鈦礦太陽(yáng)電池界面損失的新材料
    2017-11-16 14:21:27 作者:本網(wǎng)整理 來(lái)源:材料人 分享至:

         【引言】


        金屬/有機(jī)界面處的界面損失是有機(jī)電子器件中的關(guān)鍵問題,在提高器件性能方面,界面層起著重要作用,并且界面材料的設(shè)計(jì)是優(yōu)化器件性能面臨的持續(xù)挑戰(zhàn)。最近的研究中通過在有機(jī)電子傳輸層和金屬電極之間加入陰極界面修飾層,不失為一種有效減少界面損失的方法。然而這些器件的制造需要昂貴的高真空薄膜沉積工藝或復(fù)雜的材料,阻礙了界面層在印制大面積器件中的應(yīng)用和發(fā)展。

        【成果簡(jiǎn)介】

        最近,北京大學(xué)深圳研究生院新材料學(xué)院孟鴻教授課題組通過季銨化反應(yīng)高產(chǎn)率地合成了分子結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的1,10-菲咯啉衍生物Phen-I,其具有雙重功能性,在提高鈣鈦礦太陽(yáng)能電池(PSC)的功率轉(zhuǎn)換效率方面表現(xiàn)出優(yōu)異的性能。該研究發(fā)表于Nano Energy,題為“Reduced Interface Losses in Inverted Perovskite Solar Cells by Using a Simple Dual-Functional Phenanthroline Derivative”,文章第一作者為胡釗博士。研究發(fā)現(xiàn)Phen-I作為界面修飾層可以有效降低金屬電極功函,而且Phen-I又可作為n型摻雜劑提高電子傳輸材料導(dǎo)電性。研究人員通過一系列的測(cè)試手段對(duì)其中的機(jī)理進(jìn)行了深入探究。

        【圖文導(dǎo)讀】

        圖1. Uv-vis光譜和CV曲線
    31.png
        a)Phen-I在溶液和薄膜中的Uv-vis光譜。b)Phen-I的循環(huán)伏安曲線。

        圖2. 器件結(jié)構(gòu)及部分性能測(cè)試
    32.png
        a)以Phen-I作CIL的反向PSCs器件結(jié)構(gòu)。

        b)在100mW / cm2 Am 1.5G照射下測(cè)量的PCBM/Ag和PCBM/Phen-I/Ag器件J-V曲線。

        c)對(duì)應(yīng)的太陽(yáng)能電池的EQE光譜。

        d)Phen-I為CIL的器件的滯回檢測(cè)。

        圖3. 反向PSC器件性能表征
    33.jpg
        a)在100 mW / cm2的AM 1.5G照射下測(cè)量,穩(wěn)定的輸出功率效率和在所研究的反向PSC的最大功率點(diǎn)附近偏置的光電流密度。b)在100 mW / cm2 Am 1.5G照射下不同掃描速度下的反向PSC器件的J-V曲線。c)含有Phen-I層的30個(gè)器件的PCE直方圖。

        圖4. KPFM測(cè)量的表面電位圖
    34.jpg
        a)純Ag電極  b)Ag / Phen-I。c)表面電位圖中典型的VCPD直方圖。 d)器件的能級(jí)圖。

        圖5. PCBM摻雜Phen-I器件結(jié)構(gòu)及表征
    35.jpg
        a)固態(tài)PC61BM / Phen-I共混物的ESP譜圖。

        b)以Phen-I:PC61BM作為ETL的反向PSC的器件結(jié)構(gòu)。

        c)純PC61BM或Phen-I:PC61BM ETL的反向PSC器件在100 mW / cm2 Am 1.5G照射下測(cè)量的J-V曲線。

        圖6. c-AFM圖
    36.jpg
        a)c-AFM測(cè)量的示意圖,

        b)c-AFM測(cè)量的純PC61BM和Phen-I:PC61BM的I-V曲線。

        c)、d)、e)、f)分別是純PCBM, Phen-I:PC61BM為2%、5%、10%的c-AFM圖像。

        圖7. 器件表征及測(cè)試
    37.jpg
        a)純鈣鈦礦薄, 鈣鈦礦/純PCBM以及鈣鈦礦/PCBM摻雜Phen-I的穩(wěn)態(tài)PL光譜

        b)放大后的鈣鈦礦/純PCBM、以及鈣鈦礦/PCBM摻雜Phen-I的穩(wěn)態(tài)PL光譜

        c)器件穩(wěn)定性測(cè)試。

        圖8. 基于FA3MA0.7PbI2.7Cl0.3器件采用Phen-I修飾前和修飾后的器件性能
    38.jpg
        a)在模擬AM 1.5太陽(yáng)輻照下性能最好的FA0.3MA0.7PbI2.7Cl0.3器件的J-V曲線。

        b)相應(yīng)太陽(yáng)能電池的EQE光譜。

        【小結(jié)】

        該項(xiàng)研究合成了一個(gè)簡(jiǎn)單的Phen衍生物Phen-I,且通過將Phen-I作為金屬電極和ETL之間的界面修飾層,使得反向PSC在PCEs上從10.70%明顯增強(qiáng)到18.13%。當(dāng)基于FA0.3MA0.7PbI2.7Cl0.3鈣鈦礦體系時(shí)得到最佳的PCE為19.27%。研究提出,Phen-I作為新的雙功能界面修飾材料可以有效減少PSC的界面損失。其分子結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,合成成本低,因而也是大面積印刷高效有機(jī)電子元件的理想選擇,該簡(jiǎn)單衍生物的設(shè)計(jì)概念可以拓展到其他新的高效界面材料中。

        文獻(xiàn)鏈接: Reduced Interface Losses in Inverted Perovskite Solar Cells by Using a Simple Dual-Functional Phenanthroline Derivative  (Nano Energy, 2017, DOI: 10.1016/j.nanoen.2017.11.014)
     

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