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  2. 《Science》:應力場控制金屬納米線生長
    2024-09-05 13:14:48 作者:YASUHIRO KIMURA, YI CUI, TAKAM 來源:材料科學與工程 分享至:

     金屬納米線(NWs)因其獨特的電學、熱學和機械性能,成為未來高性能納米器件的重要組成部分。然而,當前的納米線生長技術面臨著大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn),尤其是純金屬納米線的高密度生長難以實現(xiàn)。本文通過控制晶粒梯度誘導的應力場,實現(xiàn)了高密度鋁(Al)納米線森林的生長,突破了傳統(tǒng)技術的瓶頸,為大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量金屬納米線提供了新方法。

    原文鏈接

    https://www.science.org/doi/10.1126/science.adn9181

    研究團隊開發(fā)了一種利用聚焦離子束(FIB)誘導的應力場控制方法,成功實現(xiàn)了Al納米線森林的高密度生長。通過FIB輻照誘導局部晶粒粗化,形成納米線生長的核,并在隨后的退火過程中推動原子遷移,使得納米線在指定位置大量生長。該方法顯著提高了納米線的生長密度,達到先前報道的10至100倍。

    • FIB誘導應力場:通過FIB輻照在薄膜表面產(chǎn)生局部應力場,促進原子遷移和納米線的垂直生長。

    • 高密度納米線森林:實現(xiàn)了高達180×10?/cm²的納米線生長密度,表面積覆蓋率達到0.51%,納米線長度可達210 µm。

    • 晶粒梯度效應:FIB誘導的晶粒梯度和雜質(zhì)的協(xié)同作用是實現(xiàn)納米線高密度生長的關鍵。

    • 單晶結構和高純度:生長的Al納米線具有高質(zhì)量的單晶結構,且雜質(zhì)主要集中在納米線基底和粗化的晶粒周圍。

    圖1: FIB輻照區(qū)域中納米線森林的生長。圖1展示了在不同F(xiàn)IB蝕刻深度下生長的納米線森林的掃描電子顯微鏡(SEM)圖像,并通過柱狀圖分析了納米線的密度和長度隨蝕刻深度的變化。

    圖2: 薄膜的晶粒結構表征。圖2通過STEM-LAADF圖像展示了輻照前后薄膜的晶粒結構變化。FIB輻照導致表面晶粒粗化,而退火過程保持了這種粗化效果,促進了納米線的生長。

    圖3: STEM-EBSD分析揭示的晶粒分布。圖3通過自動晶體取向映射(ACOM)和STEM-EBSD分析,展示了未輻照和輻照區(qū)域的晶粒分布,確認了FIB輻照誘導的晶粒粗化效應。

    圖4: 應力梯度驅(qū)動原子遷移的機制分析。圖4展示了基于有限元分析的應力梯度分布圖,解釋了晶粒梯度和應力場對原子遷移及納米線生長的影響。
    本文通過FIB誘導的應力場控制,實現(xiàn)了高密度金屬納米線森林的生長,為未來納米器件的制備提供了新思路。未來的研究可以進一步優(yōu)化應力場的控制,探索更多種類的金屬納米線生長,推動納米材料的大規(guī)模應用。

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